ASML称中企侵权，芯片短期内不会过剩将再发60台EUV光刻机-技术圈

2月9日，荷兰光刻机巨头ASML（ASML）在2021年财报中宣称，中国企业东方晶源（Dong Fang JingYuan Electron，DFJY）正在中国积极销售可能（could potentially）侵犯该公司知识产权的产品。ASML还称，东方晶源与一家已经破产的美国公司XTAL存在关联，2019年美国法院曾判定XTAL侵犯ASML知识产权。

作为回应，ASML已经告知客户不要协助这家名叫“东方晶源“的中国公司从事此类潜在的侵权行为。ASML还透露，该公司已向中国监管部门告知相关信息，正在密切监测相关情况，并准备在适当的时机采取法律行动。

据了解，东方晶源全称为东方晶源微电子科技（北京）有限公司，成立于2014年，总部位于北京亦庄经济技术开发区，专注于集成电路良率管理。从具体业务来看，东方晶源主要产品为纳米级电子束缺陷检测装备（EBI）和关键尺寸量测装备（CD-SEM）、计算光刻产品（OPC）以及微电子设计与制造智能良率优化平台（HPOTM）。东方晶源由中国500强企业东方集团投资控股，而东方集团是一家成立于1978年的大型投资控股型民营企业。

援引观察者网采访的某资深半导体行业人士表示，在光刻过程中，光的衍射以及感光层中的物理和化学效应会使光刻机试图刻出的图像变形，因此需要计算光刻进行校准和优化。简单来说，计算光刻类似EDA中的算法，是一种晶圆厂需要购买的服务，如果曝光图形跟实际掩膜（Mask）有差异，可以通过计算光刻提前修正掩膜确保得到想要的图形。一般来说，如果晶圆厂觉得ASML的计算光刻不够好，也可以选择第三方提供的产品，二者由此便会形成竞争。

XTAL公司是由ASML-Brion部门工作前员工创立（注：Brion是计算光刻概念的提出者，在2007年被ASML收购），成立于2014年。XTAL公司业务不仅包括计算光刻，而且据当时的国外媒报道，XTAL在成立后发展迅猛，而ASML在失去一个关键客户的合同后开始对XTAL怀疑其“非法利用ASML-Brion在该领域的相关技术”。

随后，在2016年ASML公司对XTAL公司发起了诉讼。根据指控，ASML美国子公司的几名员员窃取公司机密——源代码、软件、公司定价策略和供内部使用的设备手册，并将这些机密传给XTAL公司。

2018年11月，美国加州一家法院初步裁定，XTAL盗窃知识产权是恶意行为，阿斯麦指控XTAL的所有五项罪名成立，可依法获得惩罚性赔偿。

2018年12月，XTAL申请破产并试图出售知识产权，法院只能延迟判决。在2019年5月，圣克拉拉高等法院做出最终裁决，判定XTAL赔偿阿斯麦8.45亿美元。但因为XTAL破产的缘故，ASML也无法拿到赔偿金，只是根据和解协议接手了XTAL的大部分知识产权，XTAL也被禁止在一段时间内继续与Brion相同的业务。

ASML在这份2021年度报告当中再次提到了对于其商业秘密、专有客户数据、知识产权或其他机密信息遭到第三方或自家员工窃取的担忧。

目前，东方晶源方面并未对此事作出回应。

ASML销售额创新高，今年再发60台EUV光刻机

光刻技术是目前芯片生产的核心工艺，EUV技术被认为是当前生产芯片的最佳工艺。ASML公司作为光刻系统行业的领导者，凭借对先进 EUV 技术的大量投资和在EUV技术方面的垄断地位，以及在老式光刻系统产品线中也占据主导地位。

据Counterpoint报道，2021年全球半导体行业总销售额创下5500亿美元的新纪录。2月9日消息，ASML公布2021财年第四季度业绩，其中净销售额同比增长35%，毛利率创下历史新高，达到52.7%，其中EUV（极紫外线）光刻机销售额达到63亿欧元（约合人民币458亿元）。ASML已经对High-NA光刻机进行了大量投资，High-NA光刻机是EUV光刻机的进一步优化，该公司的目标是使其能够实现3nm芯片的生产。

ASML表示，最近将有6套左右的EUV光刻机完成出货，2022年共计将交付60套EUV光刻机，预计到2025年，EUV光刻机出货量将增加1.5倍以上。据此前报道，ASML计划2022年将其生产能力提高到55台EUV光刻设备，到2023年达到每年超过60台。

目前ASML主要出产的光刻机有EUV 42、DUV-ArFi 81、ArFdry 22、KrF 131、i-line 33，其中，EUV光刻机的销售额2021财年第四季度销售额就达到63亿欧元，整个2021财年里，EUV光刻机的销售额对总销售额的贡献率达到46%。

据介绍，ASML已经收到五个EXE:5000型号（High-NA产品型号）的订单，各光学掩模、光刻胶供应商之间正在密切协作，预计在2023年完成出货。2024年，AMSL还将推出EXE：5200型号，这是该公司下一代预计大批量生产的High-NA光刻机。

ASML公司称，2022年至2026年，该公司净销售额同比增长将达到20%左右，这部分的增长将主要通过High-NA光刻机的EUV设备销售来实现，到2025年，High-NA光刻机将被大规模用于DRAM芯片（Dynamic Random Access Memory）的生产。

有数据指出，2021年ASML光刻机的出货地的最大市场是中国台湾，四季度有51%的光刻系统发往当地，占比环比提升5个百分点；韩国是该公司第二大市场，同期有27%的光刻系统发往当地，占比环比下降6个百分点；中国大陆是ASML第三大市场，四季度有22%的光刻系统向当地出货，占比提升12个百分点。2021年三季度，美国和日本分别在ASML出货中占比10%和1%，但四季度占比均意外降为0，具体原因尚不清楚。

ASML光刻机出货信息

中国大陆其实一直难以获得ASML最先进工艺的光刻系统，据此前报道，在2020年三季度财报发布后，ASML的执行副总裁和CFO罗杰·达森（Roger Dassen）接受采访称，如果ASML从荷兰向中国客户销售DUV（深紫外线）光刻系统，是不需要出口许可证的。但如果向中国客户直接出口涉及美国方面的零部件及系统，按照美国要求，就必须获得出口许可。这意味着，比DUV更先进的EUV（极深紫外线）光刻机的确不能直接卖给中国。

从2018年开始，ASML就试图向中国大陆销售EUV光刻机，希望进一步进入中国大陆市场，但荷兰政府一直未批准其出口许可申请。在美国的持续施压之下，这一请求已被荷兰官员搁置。

ASML呼吁欧洲组建芯片联盟，短期内不存在芯片过剩风险

在全球“缺芯”持续困扰众多产业之际，发展半导体产业已经成为全球多个国家地区的共识。据外媒报导，在2月9日，荷兰半导体设备制造商 ASML 的首席执行官Peter Wennink也在致投资者的信中预计，今年中国、欧盟、日本、韩国和美国在芯片行业的资本支出预计将从2021年的1500亿美元增加一倍。

Peter Wennink表示：“我们意识到，这引发了对潜在供应过剩的担忧，然而我们认为，半导体行业明显的增长前景确实需要大幅提高产能。行业合作伙伴将付出足够的努力，以维持一个无障碍、高效的创新生态系统，设法避免供应过剩的情况。”

过去20年，欧洲芯片制造商几乎停止了对先进制造能力的投资，而是将更先进芯片设计的生产外包给台积电等外工厂。这意味着欧洲明显缺乏专业知识，需要几乎从零开始建立一个新的制造业生态系统。对于欧洲来说，无论是芯片产业上游产能或是芯片产业下游需求，目前都远远落后于美国和亚洲。比如，除了博世等极少数公司外，欧洲并没有太多公司能够创造足够多的边缘计算需求。然而人们普遍预计，到2030年，全球对芯片行业的需求增长将主要依靠边缘数据处理需求（例如自动驾驶汽车）的增长来推动。欧盟委员会预测，边缘计算和云计算产生的需求相对比例将在本世纪末发生逆转，从目前的20:80逆转为80:20。

ASML认为，要提振欧洲芯片产业，这份芯片法案远远不够。ASML还呼吁欧洲成立一个广泛的跨行业联盟，并尽快集体讨论出一份“长期半导体创新路线图”：

1. 最大限度地发挥欧洲冠军在半导体设计、制造设备和材料方面的潜力，这是全球半导体生态系统所依赖的；

2. 投资欧洲半导体生态系统，提升欧洲在全球终端市场的强大工业地位；

3. 在欧洲投资成熟和先进的半导体生产；

4. 吸引行业领先者在欧洲建立先进的工厂（或“晶圆厂”）；

5. 升级欧洲半导体工艺技术研究设施。

在财政刺激方面，目前，欧盟需要660亿美元的资本支出才能维持其目前在全球产能中8%的份额，而ASML估计，欧盟必须需要将资本支出大幅提高到2640亿美元，才能实现产出翻两番的目标。

ASML警告称：“如果不采取行动，欧洲半导体产能（在全球占比）将降至4%以下，这将使其在全球范围内几乎无关紧要。因此，（各国政府）需要大力鼓励外国对欧洲先进晶圆厂的投资，以降低相关的高风险。如果欧洲政策制定者不提供足够的激励措施，这些先进的晶圆将在其他地方建造。”

本文参考自财联社、Counterpoint、路透社、观察者网、新浪财经等

报告下载：

半导体刻蚀机研究框架

电子气体：研究框架